Η Κίνα είναι απίθανο να προχωρήσει αρκετά γρήγορα στην ανάπτυξη των δυνατοτήτων της στην κατασκευή ημιαγωγών, ώστε να δημιουργήσει μέσα στην επόμενη δεκαετία μια βιώσιμη εναλλακτική λύση στην προηγμένη τεχνολογία ακραίας υπεριώδους λιθογραφίας (EUV) της ASML Holding NV, εκτιμούν αναλυτές της UBS Group AG.
"Φαίνεται να βρίσκονται σε παρόμοιο στάδιο με εκείνο στο οποίο βρισκόταν η ASML το 2004", αναφέρουν στο Bloomberg οι αναλυτές της UBS, με επικεφαλής τον Φρανσουά-Ξαβιέ Μπουβινιέ, σε σημείωμά τους προς τους πελάτες της τράπεζας.
Το Πεκίνο διοχετεύει σημαντικά κρατικά κεφάλαια στην εγχώρια βιομηχανία ημιαγωγών, στο πλαίσιο της προσπάθειας να περιορίσει την εξάρτηση της χώρας από ξένες τεχνολογίες και να καταστήσει την Κίνα αυτάρκη στον κρίσιμο αυτό κλάδο.
Ωστόσο, η προσπάθεια προσκρούει στους περιορισμούς που έχει επιβάλει η Ουάσινγκτον στις εξαγωγές προηγμένου εξοπλισμού κατασκευής τσιπ προς την Κίνα, περιορισμοί που έχουν επιβραδύνει την τεχνολογική πρόοδο της χώρας.
Η ASML, με έδρα το Βέλντχοβεν της Ολλανδίας, είναι ο μοναδικός κατασκευαστής στον κόσμο των πλέον εξελιγμένων μηχανημάτων λιθογραφίας, τα οποία είναι απαραίτητα για την παραγωγή προηγμένων ημιαγωγών, μεταξύ άλλων και για τα τσιπ που χρησιμοποιεί η Nvidia Corp.
Η ολλανδική εταιρεία δεν μπορεί να πουλήσει στην Κίνα τα συστήματα λιθογραφίας ακραίας υπεριώδους ακτινοβολίας (EUV), τα οποία αποτελούν την πλέον προηγμένη τεχνολογία του κλάδου. Η απαγόρευση αποτελεί σημαντικό περιορισμό για την κινεζική βιομηχανία ημιαγωγών, καθώς η Κίνα συγκαταλέγεται στις σημαντικότερες αγορές της ASML.
Οι αναλυτές της UBS επικαλούνται τη δραστηριότητα στον τομέα των διπλωμάτων ευρεσιτεχνίας, ιδιαίτερα σε ό,τι αφορά τις υποσυστήματα πηγών φωτός και λέιζερ, ως ένδειξη τεχνολογικής ωριμότητας αντίστοιχης με εκείνη που είχε επιτύχει η ASML περίπου 15 χρόνια πριν ξεκινήσει τη μαζική παραγωγή των συστημάτων EUV.
"Δεδομένων των πιθανών αποκλίσεων σε επίπεδο αποδόσεων παραγωγής και ρυθμού παραγωγής σε σχέση με την ASML, σε συνδυασμό με τους ρυθμιστικούς περιορισμούς, θεωρούμε απίθανο τα κινεζικής κατασκευής συστήματα λιθογραφίας να χρησιμοποιηθούν εκτός Κίνας", σημειώνουν οι αναλυτές.
Παρά ταύτα, η UBS εκτιμά ότι η Κίνα θα μπορούσε μέσα στα επόμενα δύο έως πέντε χρόνια να αποκτήσει τη δυνατότητα παραγωγής σε μεγάλη κλίμακα συστημάτων λιθογραφίας βαθιάς υπεριώδους ακτινοβολίας (DUV) με τεχνολογία εμβάπτισης (immersion).
Παρότι τα συστήματα DUV είναι λιγότερο προηγμένα από τα αντίστοιχα EUV, εξακολουθούν να αποτελούν κρίσιμο εξοπλισμό για την παραγωγή ημιαγωγών. Χρησιμοποιούν φως για την αποτύπωση εξαιρετικά σύνθετων κυκλωματικών διατάξεων πάνω σε πλακίδια πυριτίου (silicon wafers), αποτελώντας βασικό στάδιο στη διαδικασία κατασκευής των τσιπ.
Η ASML τιμολογεί τα συστήματα DUV με τεχνολογία εμβάπτισης κοντά στα 90 εκατ. δολάρια το καθένα, ενώ ο πλέον προηγμένος εξοπλισμός EUV κοστίζει πάνω από 200 εκατ. δολάρια ανά μηχάνημα.
